질화규소의 중요성에 대해 이야기해 봅시다. (SiNx) 인 칩 Si 질화물

질화규소가 칩에서 중요한 역할을 하는 이유? 다른 제품과 비교하여 질화규소의 장점을 평가합니다..

칩 생산 중, 중요한 역할을 하는 제품이 있어요, 그건 질화규소야 (SiNx). 실리콘과 같이 훨씬 더 잘 알려진 다른 반도체 제품만큼 주목을 받지는 못할 수도 있지만 (그리고), 갈륨비소 (GaAs) 또는 질화갈륨 (GaN), 그 중요성은 자명하다.. 대부분의 칩은 이 제품을 사용합니다..


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(칩에 질화규소 적용)

1. 왜 SiNx인가??

조심스러운 가까운 친구들은 내가 질화규소의 화학식을 구성할 때 SiNx를 사용했다는 사실을 알아차렸습니다.. 실제로 중등학교 화학을 공부한 친구들은 N이 5번째 주요 그룹 측면이라는 것을 인식해야 합니다.. 거의, 원자가는 -3, 실리콘의 화학적 원자가는 +4. 질화규소의 화학식은 Si3N4이어야 합니다.. 어떻게 SiNx일 수 있지??

첫 번째, 질소의 다가 상태에 대해 이야기해 봅시다: 질소에는 수많은 원자가 상태가 있습니다, 주로 그것이 있다는 사실 때문에 5 원자가 전자, 질소 원자는 다양한 방법으로 이러한 전자를 공유할 수 있습니다.. 질소는 다양한 원자가 상태를 만들 수 있습니다, 주로 전자의 수에 따라 다른 구성 요소를 보여줍니다..

질소의 경우, 가장 안정적인 원자가 상태는 -3, 암모니아와 같은 (NH3) 및 질화갈륨 (GaN). 그래도 여전히, 질소는 또한 전자를 잃음으로써 유리한 원자가 상태를 형성할 수 있습니다., 와 같은 +5 질산의 원자가 상태 (HNO3). 게다가, 질소는 또한 그 사이에서 원자가 상태를 발달시킬 수 있습니다 -3 그리고 +5, 와 같은 +3 아질산의 원자가 상태 (HNO2) 또는 +1 그리고 +2 일부 천연 화합물의 원자가 상태.

둘째, 질화규소에 대해 논의해보자:

반도체 시장에서는, 다양한 응용 분야에 활용되는 질화규소는 종종 불균일합니다., 일반적으로 SiNx로 표시됩니다.. SiNx는 질소와 실리콘의 비율에 따라 특성이 달라지는 비정질 물질입니다., 즉, x의 가치. x 조정 값이, 질화규소의 물리적, 화학적 홈도 바뀔 것입니다. 질화규소는 여러 종류가 있습니다, Si3N4로 구성됨, Si2N2, 죄, 등


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( Si3N4의 구조)

Si3N4는 결정질 제품입니다., 이는 실리콘과 질소 비율이 복구되었음을 의미합니다.. x의 값이 다음과 같을 때 4/3, SiNx는 Si3N4와 같습니다.. 그래도 여전히, 기능적 응용 분야에서, SiNx는 종종 불균일합니다., PVD 또는 CVD 절차의 사양을 변환하여 실리콘과 질소 비율을 조절할 수 있습니다..

2. 칩 제조에서 SiNx의 기능은 무엇입니까?

질화 규소는 단열 주거 특성이 우수합니다., 저항률은 다음과 같이 높을 수 있습니다. 10 ^ 14 아·cm, 산화 규소와 같은 일부 일반적인 차폐 제품을 훨씬 능가합니다. (SiO2). 낮은 유전 상수로 인해 마이크로파 및 RF 응용 분야에서 완벽한 격리 층이 됩니다.. 질화규소층은 칩 내 오염물질 확산을 방해하는 역할도 한다.. 확산을 통해 가젯 기능이 변경되는 붕소 및 인과 같은 불순물로부터 보호할 수 있습니다.. 게다가, 또한 단락과 같은 실수를 방지하기 위해 강철 이온의 확산을 피할 수 있습니다..

질화규소의 탁월한 열 안정성은 독특한 화학 구조와 결정 구조에 의해 결정됩니다.. 다른 재료와 마찬가지로 화학적 부패나 물리적 형태 조정 없이 고온 환경에서도 안전하게 유지될 수 있습니다.. 그 이유는 질화규소의 결정구조에 있어서, 각 실리콘 원자는 4면체 형태로 4개의 질소 원자와 통합됩니다., 각 질소 원자는 4면체 형태로 4개의 규소 원자와 통합되어 있습니다.. 이 구조는 질화규소의 결정 격자 구조를 매우 안정적이고 결함이 발생하기 어렵게 만듭니다.. 결과적으로, 고전자 휠체어 트랜지스터 제조 시 게이트 절연층으로 활용 (HEMT).


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( 칩 제조에서 SiNx의 역할)

3. SiO2에 비해 SiNx의 장점은 무엇입니까??

훨씬 더 나은 열 안정성, 더 어려운 경도, 그리고 새기기가 더 어렵습니다.

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